制备方法
1.氯化铬与硼(或氧化硼)的混合物用金属镁于650℃还原制得。2.铬与适量硼粉在真空或惰性气氛中于1600℃下加热或在1150℃烧结48~72h,有硼化铬CrB、Cr2B、Cr3B2、Cr3B4、CrB2形成,于高温下热压后,可形成CrB2、CrB或Cr3B4。
合成制备方法
1.氯化铬与硼(或氧化硼)的混合物用金属镁于650℃还原制得。
2.铬与适量硼粉在真空或惰性气氛中于1600℃下加热或在1150℃烧结48~72h,有硼化铬CrB、Cr2B、Cr3B2、Cr3B4、CrB2形成,于高温下热压后,可形成CrB2、CrB或Cr3B4。
用途简介
用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷,熔喷在金属及陶瓷表面,形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品,有高温耐磨的实用价值。用于陶瓷,熔喷在金属及陶瓷表面,形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。
用途
1.用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷,熔喷在金属及陶瓷表面,形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品,有高温耐磨的实用价值。
2.用于陶瓷,熔喷在金属及陶瓷表面,形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。