制备方法
1.空分法 将由空气制氧时抽出的含氩馏分，经氩塔制成粗氩，再加氢除去粗氩中氧，精馏脱氮后制得99.99%～99.999％的高纯氩。2.从合成氨尾气中提取氩 可分为合成后排放尾气的低温分离和合成气进入合成塔前的液氮洗涤低温分离两大类。低温分离工艺原料气经净化、部分冷凝或精馏分离氢氮气、甲烷的分离及氩、氮混合物的分离，即可制得99.999%的纯氩。氩的提纯方法：瓶装氩中主要杂质为氧、氮、二氧化碳、氢、烃类和水分等。首先让气体通过加热的氧化铜以除去氢和烃类，接着通过充填了氢氧化钠的塔除去二氧化碳和大部分水分，再进一步用五氧化二磷干燥后，使气体通过加热的活性铜层以除去氧。此时气体中还有微量的氮没有除去。在高温下金属镁、钙、钛、铝和钡可以与氮反应生成氮化物，所以可以在高温下使气体通过装有这些金属屑的反应管来吸收氮。例如用钙或镁时，反应温度可以控制在600～700℃。用金属钛粉的效果较好，反应温度在850℃左右。由于市售钛粉中常吸附有高浓度的氢，所以在使用前必须在真空中加热，使氢完全脱除。除去氩气中微量氮的物理方法是用硅胶或沸石分子筛进行吸附，经这样处理后的氩气纯度可达99.999%。3.采用空气分离提取氩，即将液化的空气进行精馏，得到粗氩。抽出粗氩，经进一步提纯可得到高纯氩。
合成制备方法
1.空分法 将由空气制氧时抽出的含氩馏分，经氩塔制成粗氩，再加氢除去粗氩中氧，精馏脱氮后制得99.99%～99.999％的高纯氩。
2.从合成氨尾气中提取氩 可分为合成后排放尾气的低温分离和合成气进入合成塔前的液氮洗涤低温分离两大类。低温分离工艺原料气经净化、部分冷凝或精馏分离氢氮气、甲烷的分离及氩、氮混合物的分离，即可制得99.999%的纯氩。氩的提纯方法：瓶装氩中主要杂质为氧、氮、二氧化碳、氢、烃类和水分等。首先让气体通过加热的氧化铜以除去氢和烃类，接着通过充填了氢氧化钠的塔除去二氧化碳和大部分水分，再进一步用五氧化二磷干燥后，使气体通过加热的活性铜层以除去氧。此时气体中还有微量的氮没有除去。在高温下金属镁、钙、钛、铝和钡可以与氮反应生成氮化物，所以可以在高温下使气体通过装有这些金属屑的反应管来吸收氮。例如用钙或镁时，反应温度可以控制在600～700℃。用金属钛粉的效果较好，反应温度在850℃左右。由于市售钛粉中常吸附有高浓度的氢，所以在使用前必须在真空中加热，使氢完全脱除。除去氩气中微量氮的物理方法是用硅胶或沸石分子筛进行吸附，经这样处理后的氩气纯度可达99.999%。
3.采用空气分离提取氩，即将液化的空气进行精馏，得到粗氩。抽出粗氩，经进一步提纯可得到高纯氩。
用途简介
主要用于金属焊接和切割，如对于轻金属、不锈钢或特殊合金钢的焊接和切割应用最多的是以氩做雾气氛的氩弧焊。用于半导体精炼，工业上常用5％氢和95％氩混合气作为硅半导体精炼时的保护气氛。用于金属冶炼，在冶炼钛、锆等金属时，需在氩等惰性保护气氛中进行还原反应，还用作冶炼特种钢时的脱气剂。在等离子体中的应用，由氩、氢的混合气作为等离子体可用于磁流体发电中，及电光源中的应用。高纯氩在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体；可用作系统清洗、屏蔽和增压用惰性气体；在化学气相淀积、溅射和退火等工艺中有所应用。高纯氩可用作色谱载气，也可用作大规模集成电路中混合气体的稀释气。氩被广泛用于充填弧光灯、荧光灯和电子管；焊接保护气；在钛、钴及其他活性金属的生产中用作屏蔽气；在黑色冶金中用于吹炼特种钢。纯氩用于金属焊接和冶炼。高纯氩用于半导体工业、稀有金属和有色金属的冶炼、焊接中的保护气、特种灯泡的充填气、气相色谱分析用载气及配制标准气的底气。用于灯泡充气和对不锈钢、镁、铝等的电弧焊接，即“氩弧焊”。
用途
1.主要用于金属焊接和切割，如对于轻金属、不锈钢或特殊合金钢的焊接和切割应用最多的是以氩做雾气氛的氩弧焊。用于半导体精炼，工业上常用5％氢和95％氩混合气作为硅半导体精炼时的保护气氛。用于金属冶炼，在冶炼钛、锆等金属时，需在氩等惰性保护气氛中进行还原反应，还用作冶炼特种钢时的脱气剂。在等离子体中的应用，由氩、氢的混合气作为等离子体可用于磁流体发电中，及电光源中的应用。
2.高纯氩在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体；可用作系统清洗、屏蔽和增压用惰性气体；在化学气相淀积、溅射和退火等工艺中有所应用。高纯氩可用作色谱载气，也可用作大规模集成电路中混合气体的稀释气。氩被广泛用于充填弧光灯、荧光灯和电子管；焊接保护气；在钛、钴及其他活性金属的生产中用作屏蔽气；在黑色冶金中用于吹炼特种钢。
3.纯氩用于金属焊接和冶炼。高纯氩用于半导体工业、稀有金属和有色金属的冶炼、焊接中的保护气、特种灯泡的充填气、气相色谱分析用载气及配制标准气的底气。
4.用于灯泡充气和对不锈钢、镁、铝等的电弧焊接，即“氩弧焊”。[14]
