制备方法

1.将硅粉和氯化氢按适当比例进行反应,生成二氯二氢硅,经蒸馏分离三氯氢硅,把得到的二氯二氢硅进行精制,制得电子级高纯二氯二氢硅成品。 2.将27.1g SiHCl3与3.7g Bu3N在常压下回流40h,即得到产品。产物用置于干冰浴上的接收器收集。产率可达到7.3%。 3.将硅粉和氯化氢按适当比例进行反应,生成二氯二氢硅,经蒸馏分离三氯氢硅,将得到的二氯二氢硅进行精制,制得电子级高纯二氯二氢硅成品。其反应式如下:

合成制备方法

1.将硅粉和氯化氢按适当比例进行反应，生成二氯二氢硅，经蒸馏分离三氯氢硅，把得到的二氯二氢硅进行精制，制得电子级高纯二氯二氢硅成品。

2.将27.1g SiHCl3与3.7g Bu3N在常压下回流40h，即得到产品。产物用置于干冰浴上的接收器收集。产率可达到7.3%。

3.将硅粉和氯化氢按适当比例进行反应，生成二氯二氢硅，经蒸馏分离三氯氢硅，将得到的二氯二氢硅进行精制，制得电子级高纯二氯二氢硅成品。其反应式如下：

用途简介

1.用于制造半导体,尤其是在外延法工艺中作为硅源。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相沉积二氧化硅和氮化硅。它的硅含量比三氯氢硅和四氯化硅高,二氯二氢硅沉积硅更有效,且淀积温度比其他氯硅烷低。采用二氯二氢硅在降低温度下沉积厚层所需时间大大低于采用硅烷所需时间。由于二氯二氢硅的沉积速率与采用其他氯硅烷相比对温度敏感性小,因此可以采用调节氢气流中二氯二氢硅浓度的方法来控制沉积速率,而且不会出现鼓泡所带来的不准确性和机械问题。 2.用于甲硅烷基化剂,及合成硅的有机化合物。

用途

1.用于制造半导体，尤其是在外延法工艺中作为硅源。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相沉积二氧化硅和氮化硅。它的硅含量比三氯氢硅和四氯化硅高，二氯二氢硅沉积硅更有效，且淀积温度比其他氯硅烷低。采用二氯二氢硅在降低温度下沉积厚层所需时间大大低于采用硅烷所需时间。由于二氯二氢硅的沉积速率与采用其他氯硅烷相比对温度敏感性小，因此可以采用调节氢气流中二氯二氢硅浓度的方法来控制沉积速率，而且不会出现鼓泡所带来的不准确性和机械问题。

2.用于甲硅烷基化剂，及合成硅的有机化合物。^[21]

风险类别：

2.3

WGK_Germany：

1
德国有关水污染物质的分类清单

危险类别码：

R12;R14;R23;R34

安全说明：

S26-S36/37/39-S45

RTECS号：

VV3050000

安全标志：

S26:万一接触眼睛，立即使用大量清水冲洗并送医诊治。
S45:出现意外或者感到不适，立刻到医生那里寻求帮助（最好带去产品容器标签）。
:

危险标志：

F+: Highly flammable;T: Toxic;

CHEMICAL IDENTIFICATION

RTECS NUMBER :

VV3050000

CHEMICAL NAME :

Silane, dichloro-

CAS REGISTRY NUMBER :

4109-96-0

LAST UPDATED :

199712

DATA ITEMS CITED :

6

MOLECULAR FORMULA :

Cl2-H2-Si

HEALTH HAZARD DATA

ACUTE TOXICITY DATA

TYPE OF TEST :

LC50 - Lethal concentration, 50 percent kill

ROUTE OF EXPOSURE :

Inhalation

SPECIES OBSERVED :

Rodent - rat

DOSE/DURATION :

215 ppm

TOXIC EFFECTS :

Sense Organs and Special Senses (Eye) - lacrimation Lungs, Thorax, or Respiration - acute pulmonary edema Lungs, Thorax, or Respiration - dyspnea

REFERENCE :

JTSCDR Journal of Toxicological Sciences. (Japanese Soc. of Toxicological Sciences, 4th Floor, Gakkai Center Bldg., 4-16, Yayoi 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 113, Japan) V.1- 1976- Volume(issue)/page/year: 18,394,1993

TYPE OF TEST :

LC50 - Lethal concentration, 50 percent kill

ROUTE OF EXPOSURE :

Inhalation

SPECIES OBSERVED :

Rodent - mouse

DOSE/DURATION :

144 ppm/4H

TOXIC EFFECTS :

Details of toxic effects not reported other than lethal dose value

REFERENCE :

ARTODN Archives of Toxicology. (Springer-Verlag, Heidelberger Pl. 3, D-1000 Berlin 33, Fed. Rep. Ger.) V.32- 1974- Volume(issue)/page/year: 70,218,1996 ** OTHER MULTIPLE DOSE TOXICITY DATA **

TYPE OF TEST :

TCLo - Lowest published toxic concentration

ROUTE OF EXPOSURE :

Inhalation

SPECIES OBSERVED :

Rodent - mouse

DOSE/DURATION :

32 ppm/6H/4W-I

TOXIC EFFECTS :

Sense Organs and Special Senses (Olfaction) - effect, not otherwise specified Liver - changes in liver weight Nutritional and Gross Metabolic - weight loss or decreased weight gain

REFERENCE :

ARTODN Archives of Toxicology. (Springer-Verlag, Heidelberger Pl. 3, D-1000 Berlin 33, Fed. Rep. Ger.) V.32- 1974- Volume(issue)/page/year: 70,218,1996 *** NIOSH STANDARDS DEVELOPMENT AND SURVEILLANCE DATA *** NIOSH OCCUPATIONAL EXPOSURE SURVEY DATA : NOES - National Occupational Exposure Survey (1983) NOES Hazard Code - X3138 No. of Facilities: 33 (estimated) No. of Industries: 5 No. of Occupations: 13 No. of Employees: 5098 (estimated) No. of Female Employees: 2306 (estimated)

毒理学数据：

1.急性毒性  暂无资料

2.刺激性^[14]  家兔经眼：5mg（30s），轻度刺激。

3.其他^[15] 

大鼠吸入氯化氢LC50：3124ppm（60min），4701ppm（30min）。

人吸入氯化氢LCLo：1300ppm（30min），3000ppm（5min）。

生态数据：

1.生态毒性  暂无资料

2.生物降解性 暂无资料

3.非生物降解性  暂无资料

分子结构数据

1、摩尔折射率：无可用的

2、摩尔体积（cm³/mol）：无可用的

3、等张比容（90.2K）：无可用的

4、表面张力（dyne/cm）：无可用的

5、介电常数：无可用的

6、极化率：无可用的

7、单一同位素质量：99.930281 Da

8、标称质量：100 Da

9、平均质量：101.0074 Da

计算化学数据

1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:0

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:3

8.表面电荷:0

9.复杂度:2.8

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

二苯二氯硅烷 甲基二氯硅烷 甲基三氯硅烷 三氯氢硅 高纯氢 二苯二氯硅烷 甲基二氯硅烷 甲基三氯硅烷 三氯氢硅 高纯氢 二苯二氯硅烷 甲基二氯硅烷 甲基三氯硅烷 三氯氢硅 高纯氢

烯丙基二氯硅烷 二乙基硅烷 正己基二氯硅烷 金属硅 四氟化硅 烯丙基二氯硅烷 二乙基硅烷 正己基二氯硅烷 金属硅 四氟化硅 烯丙基二氯硅烷 二乙基硅烷 正己基二氯硅烷 金属硅 四氟化硅