制备方法
1.氟硼酸钾、硼酐、硫酸法 将氟硼酸钾和硼酐一起研磨均匀,按一定的配料比加入反应器中,再加入浓硫酸,不断搅拌,使固体和液体混合均匀,逐渐加热,到一定程度便有氟化硼产生。在温度达到40 ℃左右时,反应物开始沸腾,当温度达到93~130 ℃时,产生的气体最多。生成的氟化硼气体净化后进入收集器中。其反应式如下:将干燥的元素硼粉放入管式反应炉的反应管里,先用惰性气体排除空气,然后加热300℃,通入少量氯气,在温度达到650℃时,大量通入氯气,在温度控制在650-750℃。生成的三氯化硼由接收器用于冰冷却收集,再经精馏,制得三氯化硼成品。其反应式如下:将精制三氯化硼为原料,通过吸附和蒸馏的方法进行提纯,制得高纯度三氯化硼。
合成制备方法
1.氟硼酸钾、硼酐、硫酸法 将氟硼酸钾和硼酐一起研磨均匀,按一定的配料比加入反应器中,再加入浓硫酸,不断搅拌,使固体和液体混合均匀,逐渐加热,到一定程度便有氟化硼产生。在温度达到40 ℃左右时,反应物开始沸腾,当温度达到93~130 ℃时,产生的气体最多。生成的氟化硼气体净化后进入收集器中。其反应式如下:
将干燥的元素硼粉放入管式反应炉的反应管里,先用惰性气体排除空气,然后加热300℃,通入少量氯气,在温度达到650℃时,大量通入氯气,在温度控制在650-750℃。生成的三氯化硼由接收器用于冰冷却收集,再经精馏,制得三氯化硼成品。其反应式如下:
将精制三氯化硼为原料,通过吸附和蒸馏的方法进行提纯,制得高纯度三氯化硼。
用途简介
主要用作有机反应催化剂,如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等。铸镁及合金时的防氧化剂。是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。还用于电子工业等。主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。还用于高纯硼、氮化硼、碳化硼等陶瓷材料及有机硼化物的制备,也用于金属的精炼提纯以及光导纤维、耐热涂料的制造。用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼化合物的制取。
用途
1.主要用作有机反应催化剂,如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等。铸镁及合金时的防氧化剂。是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。还用于电子工业等。
2.主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。还用于高纯硼、氮化硼、碳化硼等陶瓷材料及有机硼化物的制备,也用于金属的精炼提纯以及光导纤维、耐热涂料的制造。
3.用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼化合物的制取。[17]