制备方法
1.采用还原法。氧化硼和氧化钼在碳存在下,于高温还原制得。也可用元素硼和钼直接加热制得。2.钼与硼粉在1300~1400℃真空条件下反应,钼表面主要形成Mo2B,另有少量Mo2B5(1h内)。3.在钼上蒸镀硼(或反之)时,界面上可形成Mo2B
合成制备方法
1.采用还原法。氧化硼和氧化钼在碳存在下,于高温还原制得。也可用元素硼和钼直接加热制得。
2.钼与硼粉在1300~1400℃真空条件下反应,钼表面主要形成Mo2B,另有少量Mo2B5(1h内)。
3.在钼上蒸镀硼(或反之)时,界面上可形成Mo2B
用途简介
用作电子用钨、铝、钽合金的添加剂。也可用于制造耐磨薄膜和半导体薄膜喷涂材料。
用途
用作电子用钨、铝、钽合金的添加剂。也可用于制造耐磨薄膜和半导体薄膜喷涂材料。