合成制备方法
制备XeF4的常用方法是在镍反应器中加热氙和氟的混合气体，并使原料气中F2/Xe比为5∶1，在400℃的温度下反应1h，反应完成后使反应器迅速冷却，但产物中混有一些XeF6和XeF2。
制法 以氙和二氟化二氧在低温低压下反应制备四氟化氙。
反应中所用不锈钢容器和真空管线预先用ClF3和XeF6进行钝化处理，然后抽真空一整天。O2F2直接由F2和O2合成，此光化学合成反应在装有蓝宝石窗的铜反应器中进行，混合气体中F2和O2的配比为1∶1。
在-196℃的温度下，将约0.4g氙和大过量的(10倍或更多)O2F2冷凝在一容积为35mL的圆柱形不锈钢反应器中，接着将反应器置于-155℃的冷浴(CF2Cl2/液氮)中，并慢慢升温，使温度在2～4h内达到-120℃。随后将反应器置于装有干冰的杜瓦瓶中，并控制温度为-78℃，保持在此温度下过夜，在此期间过剩的O2F2分解为O2和F2，挥发性的物质通过一冷却至-196℃的冷阱，其中O2和F2被除去，此冷阱中也会有一些白色的固体物质。将-196℃的杜瓦瓶换成-78℃的杜瓦瓶，继续抽真空1h，产物中混有的CF4，COF2和SiF4等杂质即被除去。剩余的固体物质为XeF4和XeF2的混合物。按照上面所述的同样方法，再用O2F2与XeF4和XeF2的混合物反应，最后氙几乎是定量地转化为XeF4。
用途
四氟化氙是稳定的化合物，可长期储存在镍容器中，是一种很强的氧化剂和氟化剂，与水剧烈反应生成Xe,O2,HF和XeO3。