首先科普一下：

等离子体刻蚀机：等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE)，顺流等离子体(downstream)，直接等离子体(direction plasma)。

LPVD：在大规模集成电路技术中，有很多沉积薄膜的方法，一般而言这些方法可以分类为两种：1.化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）CVD是近几十年来叙述发展的材料表面改性技术，他是利用气象之间反应在各种材料或者制品表面沉积一层薄膜，赋予材料表面一些特殊的性能。防御外界环境作用的能力，提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性，可以赋予材料某些特性，包括光、电、磁、热、声等。

等离子体刻蚀和LPCVD ,真空泵常用哪种类型？

答：传统采用的一般是水环式真空泵和旋片式真空泵，水环真空泵对气体介质要求低，但是体积较大，效率低且维护量大。渐渐的在光伏光电子行业已经淡出。

旋片真空泵体积小，造价很低，但是运行不稳定，会带来油污污染，且存在明显机械摩擦，叶片损坏较快，气量衰减快。近年有很多实力强的企业已经开始采用一些品质好的螺杆真空泵代替传统真空泵，螺杆真空泵运行较稳定，系统内有油污处理设备，维护周期长。

缺点是国内的螺杆真空泵厂家质量还不过硬，国外产品价格较高，一次投资大。所以新建企业由于投资问题都选用便宜的旋片真空泵，在投产形成利润后很多渐渐选用螺杆真空泵进行技改。