- 产品名称
- 次氮基三乙酸
- CAS NO
- 139-13-9
- 中文别名
- 氮川三乙酸;氨基三乙酸;次氨基三乙酸;N,N-二(羧甲基)甘氨酸;氮三乙酸;氮基三乙酸;氮川三乙酸氨羧络合剂I;特里隆A;托立龙A;氨三乙酸
- 英文名称
- Kyselina nitrilotrioctova
- 英文别名
- Nitrilotriacetic acid;Complexon I;Hampshire NTA acid;Komplexon I;N,N-Bis(carboxymethyl)glycine;Nitrilotriacetate;Nitrilotriessigsaeure;Titriplex I;Tri(carboxymethyl)amine;Triglycollamic acid;Trilon A;Versene NTA acid;Aminotriethanoic acid;Glycine, N,N-bis(carboxymethyl)-
- 分子式
-
C6H9NO6
- 分子量
- 191.14
- EINECS
- 205-355-7
- 熔点
- 245°C (dec.)(lit.)
- 沸点
- 498.2oCat 760 mmHg
- 毒性
次氮基三乙酸又称氨三乙酸,白色结晶性粉末。 溶于氨水和碱溶液,微溶于热水,不溶于水和多数有机溶剂。
CAS号:139-13-9
分子式:C6H9NO6
分子量:191.14
EINECS号:205-355-7
英文名称:Nitrilotriacetic acid
熔点:245 °C
沸点:326.86°C
密度:1.5784
折射率:1.4860
闪点:100 °C
主要用途如下:
1.络合剂它是大家熟番的络合剂,可与多种金属形成金属络合物,进行分析和测定,并分离稀有金属。也可用以从稀有金属中提取个别金属;
2.催化剂在聚氨酯泡沫塑料生产中,它可作为发泡催化剂,能立刻发泡而迅速胶凝;
3.稳定剂在聚苯乙烯生产中,它可作为稳定剂;
4.去垢剂在核反就堆的水蒸气发生器系统中,它可作为水溶液注入蒸汽-水循环来去除壁间的垢和腐蚀物质,在加入过程中不影响效率。5.电镀剂在无毒电镀中,它可加快沉积速度;
6.彩色照相显影剂在彩色照相显影中,它是重要的成分之一,可以用来防止显影时沉淀的产生。
储运方式:
库房通风低温干燥
注:近期因为原料价格以及政策等原因价格浮动可能比较大,具体价格变化欢迎来电咨询!!!
- 公司规模
- 11-50人
- 认证信息
-
洛克
- 公司类型
- 贸易商
- 所在地区
- 山东省 济南
- 联系人
- 王思兵
- 电 话
- 18615189709
- QQ
- 234997965
- 地 址
- 天桥区济南新材料交易中心办公楼三层335-6号