产品名称

三氧化钨

CAS NO

1314-35-8

中文别名

钨酸酐;氧化钨(VI)

英文名称

Tungsten oxide (WO3)

英文别名

C.I. 77901;Ditungsten hexaoxide; Tritungsten nonaoxide; Tungsten oxide; Tungsten oxide(W2O6); Tungsten oxide (W3O9); Tungsten oxide (W4O12); Tungsten trioxide;Tungsten trioxide (WO3); Tungsten(VI) oxide; Tungstic anhydride; Tungsticoxide; Tungstic oxide (WO3); WWO 03PB; YMDS 06

分子式

O₃W

分子量

231.84

EINECS

215-231-4

熔点

1470-1475 °C

沸点

~1700oC

毒性

1、急性毒性：小鼠口经LD50： 1059 mg/kg

黄色纳米三氧化钨WO3
CAS号：1314-35-8

纳米三氧化钨采用水热法制得，粒径细，纯度高，纳米三氧化钨对电磁波有很强的吸收能力，可作优良的太阳能吸收材料和隐形材料。纳米三氧化钨具有较大的比表面，表面效应显著，有着特殊的催化性能。作为过渡金属的化合物，纳米三氧化钨是一种宽带隙的n型半导体，是一种很有潜力的敏感材料。

技术指标：

型   号	VK-W20	VK-W50	VK-W100
外观	浅黄色粉末	浅黄色粉末	浅黄色粉末
粒径 nm	20	50	100
比表面积 m2/g	40-60	5-15	2-10
纯度 ≥%	99.9	99.9	99.9

应用范围：
1. 气敏、催化油漆是光催化；

2. 太阳能感光薄膜；

3. 高级颜料，油彩水彩；

4. X射线屏蔽及防火织物；

5. 掺钨改性材料掺杂用；

6. 气体传感材料；

7. 石油化工的出催化或辅助催化剂。加氢脱氢、氧化、烃类异构化、烷基化等许多反应具有良好的催化性能，是石油化工等常用的催化剂。

应用案例：
 采用射频磁控溅镀法制备陶瓷靶三氧化钨薄膜的步骤如下：

1.  基材在使用前先将导电玻璃ITO做清洁，顺序为使用去离子水、酒精、丙酮以超音波震荡机各震荡15分钟清除表面污渍及有机物；

2.  取出试片吹干，迅速放入真空腔中准备溅镀；

3.  基材置入真空室后，先以机械回转泵抽至3×10^-3左右，再使用冷凝帮浦抽至2×10^-6以下持续半小时，并且加热基板到实验温度，此时导入Ar气氛O2氧气在不同的氧气氛下沉积，靶材表面溅镀前处理以去除杂质及氧化层，调整溅射功率到（100W）。