产品名称

氧化铈

CAS NO

1306-38-3

中文别名

二氧化铈(抛光粉);发乳白色的,玻璃白;铈土,氧化铈;氧化高铈;氧化铈(IV);二氧化铈;二氧化铈, 99.5% (REO)

英文名称

Cerium dioxide

英文别名

Cerium oxide;Cerium oxide (CeO2);Cerium(IV)dioxide

分子式

CeO₂

分子量

172.11

EINECS

215-150-4

熔点

2600°C

沸点

3500 °C

毒性

达西浓自主生产的氧化铈抛光液 HS300S 是达西浓纳米科技（常州）有限公司自主研发的一款高性能氧化铈抛光液，以下是对其的详细介绍：

产品特性

1. 粒度可控：HS300S 的原生粒径约为 20-30nm，粒度分布均匀，能够满足高精度抛光需求。
2. 高效切削：氧化铈微粒具有优秀的切削性能，能够快速去除表面微观不平整，提高抛光效率。
3. 低损伤：软硬度适中，不会划伤被抛光面，确保抛光后的表面光滑无痕。
4. 强适配性：适用于多种材质的抛光，包括单模/多模光纤、高密度封装场景等。
5. 悬浮性好：不易沉淀，使用方便，能够保持抛光液的均匀性和稳定性。
6. 使用寿命长：较长的使用寿命减少了更换抛光材料的频率，降低了使用成本。

应用领域

1. 光纤精密抛光：

   • 氧化铈抛光液 HS300S成为光纤连接器/插芯、PLC 分路器等精密端面抛光的优选。
   • 尤其适配单模/多模光纤与高密度封装场景，兼顾良率与成本优势。

2. 玻璃抛光：

   • 氧化铈抛光液 HS300S可用于汽车玻璃、光学镜片、显示玻璃、蓝宝石玻璃、微晶玻璃、精密玻璃等的抛光。
   • 有效去除玻璃上的油膜，恢复玻璃的清晰度。
   • 修复玻璃上的轻微划痕，提升玻璃的整体美观度。
   • 抛光后的玻璃表面光洁度极高，能够减少眩光和反光，提高驾驶安全性（针对汽车玻璃）或光学性能（针对光学镜片等）。

3. 半导体领域：

   • 氧化铈抛光液 HS300S在集成电路制造工艺中，可用于浅槽隔离（STI）、层间电介质（ILD）和其他需要高速去除二氧化硅的抛光工艺。

使用优势

1. 材料性能可控：氧化铈抛光液 HS300S磨料性能稳定，确保抛光效果的一致性。
2. 化学-机械协同抛光：结合化学腐蚀和机械研磨的作用，提高抛光效率和质量。
3. 高稳定性与低缺陷：抛光液稳定性高，抛光过程中产生的缺陷少，提高产品良率。
4. 自主可控：作为国产产品，具有自主可控的优势，能够满足国内市场的需求。
5. 性价比高：与国外同类产品相比，具有更高的性价比，降低使用成本。
6. 服务响应快：提供及时的技术支持和售后服务，解决用户在使用过程中遇到的问题。

使用方法

1. 准备：将待抛光表面冲洗干净，确保表面无尘土和杂质。
2. 涂抹：将 HS300S 摇匀后，挤在抛光垫或羊毛毡上。
3. 抛光：在待抛光表面上来回擦拭按摩，根据需要去除油膜或修复划痕的时间（如 30 秒或 5 分钟）进行抛光。
4. 冲洗：抛光完成后，用清水冲洗干净表面。

注意事项

1. 安全防护：在使用 氧化铈抛光液 HS300S 时，建议佩戴防护手套和口罩，避免抛光液溅入眼睛或皮肤。
2. 均匀力度：抛光过程中要保持均匀的力度，避免过度抛光导致表面损伤。
3. 储存条件：氧化铈抛光液 HS300S应存放在阴凉干燥处，避免阳光直射和高温环境。