合成制备方法
在温度为300℃和5.05MPa的高压下,大过量的氟与氙(F2/Xe比为20)直接反应,产物主要为XeF6,同时也有XeF4生成。为了得到纯净的XeF6,利用XeF6易与NaF生成加合物NaXeF7的性质,使之与XeF4分离,然后使NaXeF7热解即可制得XeF6。下面介绍的制法则可直接得到纯净的XeF6。
制法 制备XeF6的反应器为一经充分钝化处理的不锈钢管制成,管内安装一根加热用的镍电阻丝,反应开始时反应器置于液氮中,而电阻丝以直流电源供电加热至700~800℃。该反应器与真空系统相连接,真空系统由一缓冲容器和一金属风箱式循环抽气泵组成。将2.0g氙冷凝在反应器的器壁上,应确保反应器沿长度方向的全部器壁都均匀地附着薄薄一层固体氙,接着将氟引入缓冲容器中(在压力为21.3kPa时,体积为22L,约7.2g)。接通加热电源,使电阻丝的温度达到700~800℃,同时开动循环泵,使氟以6.7~9.3kPa的额定压力通过反应器,1h后,关闭反应器,XeF6在冷却至-78℃的不锈钢冷阱中冷凝形成白色固体,产量为2.3g,产率以投入的氙计算达62%。
用途
六氟化氙是一种热力学稳定的化合物,可储存在镍或镍合金容器中,是一种很强的氧化剂和氟化剂,在水中水解生成XeOF4和HF,水解的最终产物为XeO3。