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钯蚀刻剂和铂蚀刻剂
钯蚀刻剂TFP
钯蚀刻剂TFP用于在阴极溅镀、蒸发和化学沉积膜上刻制高分辨率图案。这些膜通常用作硅片镍和金膜体系的阻挡层。
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性质
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操作
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外观
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深琥珀色水溶液
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罐
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玻璃/Pyrex/PVC
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PH
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＜1
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温度
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40-60℃
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闪点
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不可燃
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蚀刻速率
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110 ? /秒，50℃
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贮存
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室温
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冲洗
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水
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有效期
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1年
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匹配性
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毒性
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酸
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光刻胶
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阴性和阳性光刻胶
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金属膜
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金/镍-金
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钯蚀刻剂1：1
钯蚀刻剂1：1A和B适于蚀刻钯金属薄膜，钯蚀刻剂1：1是一个两组分体系，在使用前两组分要进行等量混合，和包括光刻胶在内的广范围材料都能匹配使用。蚀刻速率为中等速率。
含氰材料需要作特殊处理
铂蚀刻剂1：1
铂蚀刻剂1：1A和B适合用来蚀刻铂金属薄膜，铂蚀刻剂1：1是一种两组分体系。在使用前两组分必须进行等量混合。和包括光刻胶在内的广范围材料具有良好匹配性。蚀刻速率中等。
含氰材料需要作特殊处理。
