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钛蚀刻剂
钛蚀刻剂是应用于半导体制作和薄膜微电子技术的选择性控制蚀刻剂。
钛蚀刻剂TFT是设计用来蚀刻通常在微电子产品中作为连结层和阻挡层的蒸发法薄膜的蚀刻剂。这种蚀刻剂光刻胶匹配性良好、分辨率高、边下蚀现象低。
钛蚀刻剂TFTN用来蚀刻玻璃或SiO2基板上的Ti沉积膜。TFTN并不含有氢氟酸。
性质
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TFT
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TFTN
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外观
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澄清水溶液
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澄清水溶液
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PH
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1
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1
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闪点
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不可燃
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不可燃
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贮存
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室温
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室温
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有效期
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1年
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1年
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毒性
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强酸
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强酸
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操作
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蚀刻容器
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聚乙烯/聚丙烯
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聚乙烯/聚丙烯
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温度
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20~50℃
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70~85℃
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蚀刻速率
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25 ?/秒,20℃
50 ?/秒,30℃
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10 ?/秒,70℃
50 ?/秒,80℃
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冲洗
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水
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水
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*匹配光刻胶
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阴性和阳性
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阴性和阳性
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金属
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——
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除Al以外的大多数金属
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*KPR/KMER/KTFR:PKP(Transene);AZ/RISTON/ETC.