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阴性光刻胶去除剂-001

说明

阴性光刻胶去除剂NRR-001是由芳香化合物组成的，使用方便的低PH值去除剂。NRR-001可去除烘烤在各种基体上（如砷化镓、硅、铬等）普通阴性光刻胶。使用得当时它对于各种金属及氧化物表面无腐蚀作用。NRR-001不浸蚀聚酰亚胺。

NRR-001去除剂不含磷酸盐、铬酸盐、苯酚和氯代烃。NRR-001在室温或加温条件下性能良好，槽液使用期长。如果贮放在避光的阴凉地方。其有效期可达一年之久。

化学性质和物理性质

应用

槽液组成——对所有半导体操作都是全强度，喷涂或浸泡

冲洗——用芳香物溶剂作必要的冲洗

槽液寿命——当去除光刻胶操作时间超过15分钟时，要更换槽液。

使用——NRR-001广泛用于PC板、铬光掩膜、薄膜和混合集成电路及MCM装置。也可以用来去除油、墨水及其它有机物。